中国网4月23日讯( 记者 赵晓雯)4月23日,由国家知识产权局主办的2021年中国知识产权保护高层论坛召开。国家知识产权局局长申长雨表示,两年来,我国法律制度进一步完善,行政保护力度加大,下一步将加快完善相关知识产权法律法规,推动地理标志专门立法,强化人工智能、大数据等信息技术在知识产权审查和保护领域的应用。
申长雨表示,我国知识产权审查质量效率持续提升。高价值发明专利审查周期压减至14个月,商标注册平均审查周期压缩至4个月,均达到国际相同审查制度下的最快水平。发明专利审查结案准确率达到92.2%,商标注册审查抽检合格率达到96.7%。
此外,我国知识产权国际合作深入推进,建成国家海外知识产权纠纷应对指导中心和10家地方分中心,指导海外维权案件300多件。中国保护知识产权的努力和成效得到了各方面的高度认可。国内知识产权保护社会满意度提高到80分以上。我国在世界知识产权组织发布的《全球创新指数报告》中的排名提升到第14位,位居中等收入经济体之首。
申长雨透露,下一步,将加快完善相关知识产权法律法规,会同相关部门统筹推进专利法、商标法、著作权法、反垄断法、科学技术进步法等修订工作,增强法律之间的一致性。积极推动地理标志专门立法,更好促进地理标志产业发展。强化人工智能、大数据等信息技术在知识产权审查和保护领域的应用,建立健全大数据、人工智能、基因技术等新领域新业态知识产权保护规则,构筑未来发展新优势。
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