（来源：紫竹快讯）

　　2026年10月12日至16日，第26届中国国际工业博览会在国家会展中心（上海）隆重举行。作为本届工博会全新升级的独立专业展，集成电路展（"国芯展"）首次亮相，3万平方米展馆汇聚300余家覆盖设计、制造、封测、设备材料及应用生态的产业链企业，全景呈现中国"芯"力量的最新突破。至纯科技携展品亮相参展，S300D湿法清洗平台荣获2026"国芯展"创新成果奖。

　　至纯科技旗下至纯集成推出高纯工艺的全部场景化解决方案及智慧场务系统。在为诸多一线12寸晶圆厂服务的过程中，至纯集成积累了大量的技术和经验，并结合自身模块化+数字化的优势，推出了场景化解决方案及智慧场务系统，为用户在COC及COO的优势上作出贡献。这将进一步巩固至纯集成在高纯领域的领先地位。

　　至纯科技旗下至微科技自主研发的S300D先进制程湿法清洗平台，从全产业链众多参展成果中脱颖而出，荣获2026"国芯展"创新成果奖。

　　S300D 12寸单片湿法清洗和刻蚀设备:

　　主要应用于300mm半导体制造工艺中的湿法清洗和刻蚀工艺，包括RCA 清洗、Gate 清洗、前段湿法去胶、后段有机物残留清洗、氮化硅刻蚀、FINFET 刻蚀后清洗、背面清洗、HKMG清洗，氧化硅刻蚀、金属刻蚀等工艺。该设备通过流速最优重构管路，提升排液效率与腔室匹配效率，缩短工艺节拍与调试周期，助力客户释放产能；温损最小化设计降低能耗，多层气液分离结构提升药液回收率，显著减少运维成本。综合成本与性能优势突出。通过分级回收与精准排放减少化学废液，结合节能设计降低运行能耗，践行绿色制造。产品实现关键环节自主突破，为国内客户提供国产替代方案，打破进口依赖，保障产业链安全，并带动本土供应链协同发展。

　　 "国芯展"创新成果奖由院士专家组与行业龙头企业技术总工组成联合评审团，面向全产业链公开征集、严格评审，围绕”技术原创性、产业引领性、自主可控水平、量产落地价值”四大维度展开遴选，最终仅40家企业获奖，成果覆盖装备、材料、零部件、EDA、芯片设计与制造各个环节。S300D的成功获奖，标志着国产湿法清洗设备在先进制程领域的自主创新能力，再次获得行业权威的高度肯定。

　　首届"国芯展"以"芯链工业，强芯筑基"为主题，昭示着集成电路与工业深度融合的产业大势。S300D荣获奖项，是荣誉，更是责任。未来，至纯科技将继续沿着先进制造业的发展方向，高水平投入研发，追踪技术趋势和客户需求，以更优的设备、更全的平台、更强的交付，助力国产半导体产业链高质量发展，为制造强国建设贡献"至纯力量"。