（来源：半导体前沿）

　　—论坛信息—

　　名称：空白掩模与合成石英材料技术论坛2026

　　时间：2026年12月3-4日

　　地点：苏州

　　主办方：亚化咨询

　　—会议背景—

　　空白掩模版（Blank Mask）是先进半导体和新型显示光刻工艺中的关键原材料，其底层依托高纯合成石英材料和高精度光掩模石英基板。以 SiCl₄、有机硅等为前驱体的气相合成路线制得高纯合成石英玻璃锭，再经石英基板生产空白掩模版。

　　在成熟制程与先进制程并行扩产、HBM 高带宽存储，AI 芯片需求拉动下，光刻工艺对掩模石英基板和空白掩模版提出更严苛的性能指标。同时，TFT‑LCD、OLED、Micro‑LED 等新型显示对石英基板的平整度、尺寸精度和批量一致性也不断抬高门槛。这些要求正反向推动合成石英原料体系、气相合成工艺、玻璃化与脱羟技术以及大尺寸石英基板精密加工的全面升级。

　　目前，高端合成石英玻璃与空白掩模版仍由少数日美企业主导，对中国半导体与 AI 产业链的算力供给和工艺安全构成关键约束。面向成熟制程与先进工艺节点以及 AI 芯片量产，构建以合成石英为核心的高端掩模材料体系，实现石英基板和空白掩模版的国产化，是半导体与算力产业链的重要基础工程。

　　在此背景下，亚化咨询将于2026年12月3–4日在苏州主办空白掩模与合成石英材料技术论坛2026，以“气相合成—石英基板—空白掩模版”为主线，聚焦先进半导体和AI芯片制造所需的合成石英技术路线、石英基板工艺和空白掩模版制造与检测技术，推动材料、工艺、装备与下游晶圆厂/面板厂协同，探索高端掩模材料国产化和算力基础设施安全的实现路径。

　　—赞助方案—